(2013•浙江)物理第20道选择 (2013•浙江)在半导体离子注入工艺中,初速度可忽略的离子P+和P3+,经电压为U的电场加速后,垂直进入磁感应强度大小为B、方向垂直纸面向里,有一定的宽

来源:学生作业帮助网 编辑:作业帮 时间:2024/05/16 06:13:21
(2013•浙江)物理第20道选择 (2013•浙江)在半导体离子注入工艺中,初速度可忽略的离子P+和P3+,经电压为U的电场加速后,垂直进入磁感应强度大小为B、方向垂直纸面向里,有一定的宽

(2013•浙江)物理第20道选择 (2013•浙江)在半导体离子注入工艺中,初速度可忽略的离子P+和P3+,经电压为U的电场加速后,垂直进入磁感应强度大小为B、方向垂直纸面向里,有一定的宽
(2013•浙江)物理第20道选择
(2013•浙江)在半导体离子注入工艺中,初速度可忽略的离子P+和P3+,经电压为U的电场加速后,垂直进入磁感应强度大小为B、方向垂直纸面向里,有一定的宽度的匀强磁场区域,如图所示.已知离子P+在磁场中转过θ=30°后从磁场右边界射出.在电场和磁场中运动时,离子P+和P3+(  )
A.在内场中的加速度之比为1:1B.在磁场中运动的半径之比为 3:1C.在磁场中转过的角度之比为1:2D.离开电场区域时的动能之比为1:3

(2013•浙江)物理第20道选择 (2013•浙江)在半导体离子注入工艺中,初速度可忽略的离子P+和P3+,经电压为U的电场加速后,垂直进入磁感应强度大小为B、方向垂直纸面向里,有一定的宽
好像没说质量相同
姑且当质量相同吧 用动能定理解出 v+:v3+=1:根号3
r=mv/qb
所以r+:r3+=根号3:1
(看看题目有没有其他条件吧)